一種循環(huán)式鍍錫工藝及裝置
發(fā)布時(shí)間：2015-01-28 14:50:23 游覽量：2901
所述進(jìn)錫加熱區位于爐管接頭和循環(huán)錫進(jìn)口之間，所述出錫加熱區位于循環(huán)錫進(jìn)口和 鍍錫模具之間，所述進(jìn)錫加熱區外周和出錫加熱區外周均設置有加熱裝置;在進(jìn)錫加熱區 的鍍錫爐管內的液態(tài)錫液面不高于爐管接頭;
所述液態(tài)錫循環(huán)系統包括錫循環(huán)泵、錫分配器、回錫槽和儲錫箱，回錫槽位于退火爐爐 管下方并與所述回流通道連通，儲錫箱位于回錫槽下方;所述回錫槽包括與所述鍍錫模具 的回流通道連通的外回錫槽，以及與所述儲錫箱連通的內回錫槽;錫循環(huán)泵設置于儲錫箱 內，所述錫分配器設置于鍍錫爐管對應所述循環(huán)錫進(jìn)口的位置，所述錫分配器與所述錫循 環(huán)泵連通;所述保護氣體循環(huán)系統包括保護氣體氣源儲存裝置、開(kāi)設于所述內回錫槽一端的保護 氣引入口、連接內回錫槽另一端與錫分配器一端的保護氣通道、連接錫分配器另一端與保 護氣分配器的管道、連接保護氣分配器和爐管接頭的軟管;所述退火爐爐管進(jìn)口封設有密 封裝置。
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